ウェハー加工に関するQ＆A
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「フォトリソ」についてのQ&A
Q-45: フォトリソ加工で使用するレジストの種類は何ですか？
A-45: 当社では、ポジレジストとネガレジストの両方を使用してフォトリソ加工を行っています。用途やパターン設計に応じて最適なレジストを選定します。
Q-46: フォトリソリソグラフィとは何ですか？
A-46: フォトリソリソグラフィは、半導体製造プロセスにおいて、光を利用して微細なパターンを基板上に形成する技術です。感光性樹脂（フォトレジスト）を塗布した基板にマスクを介して光を照射し、選択的にフォトレジストを硬化させることで、パターンを形成します。
Q-47: フォトリソ加工での解像度はどれくらいですか？
A-47: 当社のフォトリソ加工での解像度実績としては 0.4μm（400nm）となります。ただし基板やパターンなどの条件にもよりますので、ご相談ください。
Q-48: フォトリソ加工でのライン幅の最小寸法はどれくらいですか？
A-48: フォトリソ加工では、最小ライン幅は 0.4μm（400nm）まで対応可能です。
Q-49: フォトリソ加工で使用する光源の種類は何ですか？
A-49: 当社のフォトリソ加工では、紫外線（UV）光源を使用しています。
Q-50: フォトリソリソグラフィって何をするの？
A-50: フォトリソリソグラフィは、光を使って基板上に微細なパターンを描く技術です。フォトレジストという感光性の材料を使って、光を当てることで特定の部分を硬化させ、その後エッチングしてパターンを作ります。
Q-51: フォトリソ加工で使用するマスクの種類は何ですか？
A-51: フォトリソ加工で使用するマスクには、通常、クロムマスクや石英マスクが用いられます。これらのマスクは高精度なパターンを基板に転写するために使用されます。
Q-52: フォトリソ加工の露光装置は何を使用していますか？
A-52: 当社では、ステッパーを使用しています。これにより、高精度なパターン露光が可能です。
Q-53: フォトリソグラフィの主な用途は何ですか？
A-53: フォトリソグラフィは、印刷業界での高解像度印刷、ICチップやプリント基板の製造、医療画像の解析など、さまざまな分野で使用されています。
Q-54: フォトリソグラフィの基本的な原理は？
A-54: フォトリソグラフィの基本的な原理は、感光材料に光を照射し、その光によって化学変化を引き起こすことです。この化学変化により、画像が形成されます。
Q-55: フォトリソグラフィの利点は？
A-55: フォトリソグラフィの利点は、非常に高い解像度と精度を実現できる点です。また、複数の層を重ねて複雑なパターンを作成することができるため、多様な用途に対応できます。
